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光电半导体

湿法NH3尾气处理设备

微电子半导体行业经常会产生对环境高腐蚀性,高危害的气体和颗粒。半导体制程设备排放可能会含有制程气体和新生成的气体或颗粒。出于环境,环境健康方面的考虑和越来越严格的政府规定促使使用空气污染气体排放控制系统。此系统采用文丘里入口和两个对流填料塔设计,主要用来处理MOCVD排放出来的氨气。

规格:

设计总流量:1000升/分钟(60CMH)(其它规格可选)
氨气处理量:400升/分钟(其它规格可选)
目标污染物:NH3(氨气)
进气口:6个文丘里(其它规格可选)
总体尺寸:约L1.0m x W1.0m x H1.8m
重量:无水时-180kg; 运行时-240kg

特性:

. 通过PH自动控制进水阀补水
. 通过窗口可以观察、维护Scrubber内部
. 喷淋头可触及便于清理更换
. 总体材料为耐腐蚀
. 循环喷淋泵压力监控保护


湿法NH3尾气处理设备
微电子半导体行业经常会产生对环境高腐蚀性,高危害的气体和颗粒。半导体制程设备排放可能会含有制程气体和新生成的气体或颗粒。出于环境,环境健康方面的考虑和越来越严格的政府规定促使使用空气污染气体排放控制系统。此系统采用文丘里入口和两个对流填料塔设计,主要用来处理MOCVD排放出来的氨气。
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