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APNC EX4 砷磷烷湿法尾气设备
光电/化合物半导体、太阳能电池等领域广泛使用GaAs、InP等气体。英国APNC公司拥有35+年砷磷烷scrubber建造和服务经验;明晰设备设计原理。
Ecosys M91A
M91A是同类等离子体气化和湿式减排系统中的第一选择,透过很低的消耗功率将氟化化合物等高度稳定的材料分解成更小的分子。 M91A是开发和测试用来处理PFC的气体,这些气体主要存在于当今半导体和平板显示器工艺化学工业中。 M91符合氟化温室气体的分解控制和氧化处理的工业规范。
Ecosys C91
C91是一种先进的集成热湿减排系统,旨在为当今要求苛刻的半导体、LED和平板显示器工艺化学提供气体控制处理。 C91使用多个带容错系统的加热棒,以减少系统停机时间。加热器在反应室中均匀分布,以确保工艺气体得到充分分解。
湿法ICP/PECVD尾气处理设备
本系统主要用于处理ICP/PECVD系统排放的废气,如BCL3,CL2,HCL,SiCl4等水溶性气体。优良的设计保证了高处理效率和容易使用的同时具有低运行和维护成本的特点。标准型系统为4个入口,总气体流量为600LPM。当然,也可以根据客户需要进行设计。
湿法NH3尾气处理设备
微电子半导体行业经常会产生对环境高腐蚀性,高危害的气体和颗粒。半导体制程设备排放可能会含有制程气体和新生成的气体或颗粒。出于环境,环境健康方面的考虑和越来越严格的政府规定促使使用空气污染气体排放控制系统。此系统采用文丘里入口和两个对流填料塔设计,主要用来处理MOCVD排放出来的氨气。
干法吸附尾气处理设备X-CARB
Xtek X-CARB POU系列干法吸附式scrubber可以处理各种尾气当中的污染气体。它采用高效优良的吸附媒介来移除有毒物质。根据客户的不同需求,可以提供各种规格配置。内置的各种传感器,可以监测压降,温度,和媒介等情况。
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