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光电半导体

ADT 977清洗机

ADT 977晶片清洗系统用于产品切割后的清洗。
系统可提供3种基本型号配置 :
WCS-977 – 圆形产品最大到8"
WCS-977LA – 圆形产品最大到12"
WCS-977D – 另配单独的涂胶/去胶功能单元:
*晶片旋转涂胶技术
*切割过程晶片表面完全保护
*100%去除污染和残留物质
*雾化清洗和N2吹干
. 紧凑设计
. 雾化或高压清洗
. 容易使用- 一键启动和自动关盖
. 直观的操作面板
. 通过状态指示灯和警报器进行过程监控
. 灯塔和蜂鸣器
. 符合苛刻的安全标准
. 环境友好

规格:

977- 200

977L - 300

最大产品尺寸

Ø 200 mm

Ø 300 mm

清洗方式

雾化清洗 / 高压清洗

雾化清洗 / 高压清洗

可存储菜单数量

8

8

工作平台转速范围

200-3000rpm

200–2500 rpm

设备尺寸(W*D*H)

410 x 625 x 950 mm

410 x 625 x 950 mm

机器重量

100 kg

160 kg

特性:

• 雾化清洗
• 自动关盖
• 直观的控制面板
• 过程监控
• 紧凑的设计
• 坚固,无振动
• 环境友好
• 可选项:
  * 内置排风
  * CO2 注入
  * 客制工作卡盘
  * 清洁添加剂


ADT 977清洗机
ADT 977晶片清洗系统用于产品切割后的清洗。
系统可提供3种基本型号配置 :
WCS-977 – 圆形产品最大到8"
WCS-977LA – 圆形产品最大到12"
WCS-977D – 另配单独的涂胶/去胶功能单元:
*晶片旋转涂胶技术
*切割过程晶片表面完全保护
*100%去除污染和残留物质
*雾化清洗和N2吹干
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